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Medical Dental Grade TPI Granules, Synthetic Gutta-Percha, TransIsoprene Rubber, Trans PolyIsoprene, TPI, Trans-l,4-PolyIsoprene
China Largest Manufacturer Of Meteorological Balloons

光刻胶
Photoresists

 
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1 含氟紫外纳米压印光刻胶的研制 赵彬; 周伟民; 张静; 刘彦伯; 王金合; 张燕萍; 施利毅; 张剑平 微纳电子技术 2012 7
2 喷胶工艺中光刻胶热应力分析 卢继奎; 谷德君 机械工程师 2012 2
3 硅通孔用光刻胶雾化喷涂技术 汪明波; 王绍勇 电子与封装 2012 2
4 I-Line光刻胶材料的研究进展 郑金红 影像科学与光化学 2012 2
5 软膜紫外光固化纳米压印中Amonil光刻胶的刻蚀参数优化(英文) 陈静; 石剑; 刘正堂; DECANINI Dominique; HAGHIRI-GOSNET Anne-Marie 纳米技术与精密工程 2012 1
6 纳米压印光刻胶 赵彬; 张静; 周伟民; 王金合; 刘彦伯; 张燕萍; 施利毅; 张剑平 微纳电子技术 2011 9
7 球面旋涂光刻胶工艺 刘小涵; 冯晓国; 赵晶丽; 高劲松; 张红胜; 程志峰 光学精密工程 2011 8
8 丙烯酸酯干膜光刻胶曝光特性及其应用 秦健; 刘泽文; 钟艳; 王太宏 微纳电子技术 2011 7
9 248nm光刻胶单体对羟基苯乙烯及其衍生物的合成工艺研究 宋国强; 林林; 赵廷合; 胡春青; 李川 化工新型材料 2011 7
10 先进光刻胶材料的研究进展 许箭; 陈力; 田凯军; 胡睿; 李沙瑜; 王双青; 杨国强 影像科学与光化学 2011 6
11 后段工艺干法去除光刻胶研究 赖海长; 郭兴龙 电子与封装 2011 6
12 EPG 535光刻胶氧离子刻蚀工艺的研究 任洁; 傅莉; 孙玉宝; 査钢强 压电与声光 2011 4
13 2010年全球光刻胶销售11.5亿美元未来3年将保持4.7%的年增长率 沈熙磊 半导体信息 2011 4
14 甲基丙烯酸酯类光刻胶成膜树脂的合成与性能研究 何姣; 郭文迅; 彭荡; 贺倩 应用化工 2011 2
15 AZ4620光刻胶的喷雾式涂胶工艺 邢栗; 汪明波 电子工业专用设备 2011 12
16 不同光刻胶有效曝光量的探讨 张洪波; 张启生 徐州建筑职业技术学院学报 2011 1
17 交联SU-8光刻胶与Ni基底结合性的分子动力学模拟 杜立群; 郭照沛; 张晓蕾 高分子学报 2010 6
18 聚合物SU-8光刻胶超声时效实验研究 杜立群; 王煜; 王启佳; 陈莉 大连理工大学学报 2010 6
19 光刻胶特性曲线参数测量的新方法 张洪波 物理与工程 2010 4
20 SU-8光刻胶与Ni基底结合性的分子模拟 杜立群; 郭照沛; 张晓蕾 高分子材料科学与工程 2010 3
21 新型高抗粘紫外纳米压印光刻胶的工艺研究 李中杰; 林宏; 姜学松; 王庆康; 印杰 微纳电子技术 2010 3
22 光刻胶发展在中国 访北京科华微电子公司总裁 陈昕 电子工业专用设备 2010 3
23 压印光刻工艺中光刻胶填充流变模拟与试验研究 王权岱; 段玉岗; 卢秉恒; 李涤尘; 向家伟 机械工程学报 2010 3
24 浅谈光刻胶 王怡臻 记录媒体技术 2010 2
25 一种新型紫外正型光刻胶成膜树脂的制备及光刻性能研究 谢文; 刘建国; 李平 影像科学与光化学 2010 1
26 国外光刻胶及助剂的发展趋势 王雪珍 精细与专用化学品 2009 9
27 我国光刻胶的市场现状及发展趋势 郑金红 精细与专用化学品 2009 9
28 Eu(TTFA)_3掺杂环氧基光刻胶薄膜的强烈红色荧光 李晓娟; 于晓波; 赵昕; 李长敏; 林海 光子学报 2009 9
29 东芝开发出用于EUV曝光的低分子光刻胶分辨率达到22nm 章从福 半导体信息 2009 6
30 用于浸没式工艺的光刻胶研究进展 何鉴; 盛瑞隆; 穆启道 影像科学与光化学 2009 5
31 用点渲染算法实现光刻胶显影过程的三维模拟(英文) 崔滨; 万旺根; 吴永亮; 金龙存; 杨晓东 应用科学学报 2009 4
32 树脂型光刻胶薄膜中Eu3+的辐射跃迁特性 李晓娟; TSANG Kwok Chu; PUNEdwin Yue-Bun; 林海 光谱学与光谱分析 2009 3
33 改性SU8光刻胶的光学特性及其工艺 朱军; 蒋宏民; 陈翔; 陈迪; 刘景全 功能材料与器件学报 2009 3
34 大日本印刷开发出分辨率达15nm的化学放大型光刻胶 章从福 半导体信息 2009 3
35 我第一条百吨级高档光刻胶生产线投产 刘广荣 半导体信息 2009 3
36 与金属兼容的离子注入光刻胶去除剂 Glenn Westwood; Ghi-Ming Jason Chang; John B. Covington 集成电路应用 2009 11
37 光刻胶全息光栅显影监测的模拟与实验 陈刚; 吴建宏; 刘全; 陈新荣; 李朝明 光学技术 2009 1
38 凹球面涂布光刻胶均匀性研究 赵晶丽; 王惠卿; 冯晓国; 梁凤超 应用光学 2009 1
39 金属线刻蚀工序光刻胶剥离工程中金属颗粒(Cu)析出案例调查及解决方案 陈帆; 戎蒙恬 黑龙江科技信息 2008 8
40 低陡度光刻胶光栅槽形研究 刘全; 万华; 吴建宏; 陈新荣; 李朝明 光子学报 2008 7
41 大幅面光刻胶板的显影工艺与终点控制技术 姜兆华; 张伟; 王尧; 吴滨; 印伟峨 应用激光 2008 6
42 全息光栅掩模制备中的光刻胶薄膜特性控制研究 陈南曙; 黄元申; 张大伟 激光杂志 2008 6
43 光刻胶斜坡对离子注入后图形特征尺寸的影响 刘方; 汪凌; 袁安波; 唐利; 李贝 半导体光电 2008 6
44 UV-LIGA工艺中SU-8光刻胶的热溶胀性研究 杜立群; 朱神渺; 刘冲 压电与声光 2008 5
45 EUV研究帮助解决193nm光刻胶问题 Alexande E.Braun 集成电路应用 2008 4
46 液晶阵列四次光刻工艺中光刻胶灰化工艺的研究 刘翔; 王章涛; 崔祥彦; 邓振波; 邱海军 真空科学与技术学报 2008 4
47 后烘温度对SU-8光刻胶热溶胀性及内应力的影响 杜立群; 朱神渺; 喻立川 光学精密工程 2008 3
48 用于大尺寸衍射光栅的光刻胶残余物的灰化系统研制 洪义麟; 刘良保; 周小为; 徐向东; 付绍军 真空 2008 3
49 Fujifilm导入ArF液浸曝光装置以加强先进光刻胶业务 章从福 半导体信息 2008 3
50 Shipley光刻胶性能研究 张洪波; 吴建宏; 刘全 徐州建筑职业技术学院学报 2008 3
51 “Ni-Zn铁氧体颗粒-光刻胶”覆盖的片上射频电感 杨晨; 刘锋; 任天令; 刘理天; Albert Wang; 岳振星 传感技术学报 2008 2
52 薄膜晶体管阵列四次光刻工艺中光刻胶灰化工艺的研究 刘翔; 王章涛; 崔祥彦; 邓振波; 邱海军 液晶与显示 2008 2
53 光刻胶专利信息 精细与专用化学品 2008 15
54 基于多光刻胶有效扩散长度的光学临近效应修正模型校准方法(英文) 朱亮; 闻人青青; 阎江; 顾以理; 杨华岳 半导体学报 2008 12
55 用于微镜制作的叠层光刻胶工艺及残余应力控制 李加东; 张平; 吴一辉; 宣明; 刘永顺; 王淑荣 光学精密工程 2008 11
56 光刻胶去胶难度渐增 Ruth DeJule 集成电路应用 2008 10
57 全息光栅光刻胶掩模槽形演化及其规律研究 陈刚; 吴建宏; 刘全 光学技术 2008 1
58 华飞微电子:国产高档光刻胶的先行者 王志华 集成电路应用 2007 Z2
59 微机电系统中SU-8厚光刻胶的内应力研究 杜立群; 朱神渺 光学精密工程 2007 9
60 SU-8光刻胶制作三维光子晶体 张晓玉; 高洪涛; 周崇喜; 刘强; 邢廷文; 姚汉民 光电工程 2007 8
61 光刻胶使用量预测与库存 Laird MacDowell 集成电路应用 2007 8
62 45nm节点清洗/光刻胶去除的挑战 Peter Singer 集成电路应用 2007 8
63 掩膜版清洗和光刻胶去除面临的挑战 James S. 集成电路应用 2007 6
64 镀铬对光刻胶全息光栅掩模槽形的影响 陈刚; 吴建宏; 刘全 光学仪器 2007 6
65 BN-303光刻胶前烘工艺对MEMS三维结构的影响 蒋玉荣; 何永; 李志伟; 周建; 欧阳世翕 武汉理工大学学报 2007 5
66 甲基丙烯酸酯光刻胶的制备与表征 张智慧; 林保平 江苏化工 2007 4
67 紫外可见光谱法测量光刻胶的膜厚(英文) 王乐; 刘力宇; 张浩康; 樊路嘉; 张鲁川; 杨勇; 黄瑞坤; 周昕杰; 李栋良; 张 平 液晶与显示 2007 4
68 TOK:加大研发力度,积极开拓光刻胶市场 集成电路应用 2007 3
69 新型玻璃刻蚀用光刻胶的研制 巫文强; 柯旭; 黄晔; 王跃川 应用化学 2007 2
70 华飞微电子:国产高档光刻胶的先行者 电子工业专用设备 2007 12
71 O_2/SF_6混合气体对光刻胶的离子刻蚀研究 郑载润; 郑云友; 侯智; 李正勳; 李斗熙 现代显示 2007 10
72 光刻胶刻蚀过程模拟的三维动态CA模型 周再发; 黄庆安; 李伟华; 卢伟 中国科学(E辑:技术科学) 2007 1
73 降低SU-8光刻胶侧壁粗糙度的研究 张晔; 陈迪; 李建华; 靖向萌; 倪智萍; 朱军 压电与声光 2007 1
74 基于光刻胶热熔法的全息光栅表面粗糙度平滑处理 李文昊; 巴音贺希格; 齐向东 微细加工技术 2007 1
75 基于BP神经网络的SU-8光刻胶工艺参数优选研究 曾永彬; 朱荻; 明平美; 胡洋洋 机械科学与技术 2006 9
76 镀铬基片全息光栅光刻胶掩模槽形参量光谱检测方法 陈刚; 吴建宏; 陈新荣; 刘全 中国激光 2006 6
77 利用导波耦合角度实时控制光刻胶光栅掩模的占宽比 林华; 李立峰; 曾理江 光学学报 2006 5
78 用于光刻胶刻蚀过程模拟的二维动态CA模型 周再发; 黄庆安; 李伟华; 卢伟 电子学报 2006 5
79 SU-8光刻胶氧刻蚀的研究 段炼; 朱军; 陈迪; 刘景全 压电与声光 2006 5
80 用于MEMS的叠层光刻胶牺牲层技术(英文) 张永华; 丁桂甫; 姜政; 蔡炳初; 赖宗声 传感技术学报 2006 5
81 FSI发布全新的用于无灰化、湿法光刻胶去除ViPR工艺技术 该技术应用在ZETA G3喷雾清洗平台上 电子与电脑 2006 4
82 正/负双层光刻胶厚膜剥离技术 林立; 韦书领; 杨春莉; 刘理天; 程绍椿 激光与红外 2006 4
83 微柱透镜阵列的全息-光刻胶热熔制作技术 任智斌; 姜会林; 付跃刚; 张磊; 田继文; 齐向东; 李文昊 微细加工技术 2006 4
84 微透镜阵列的光刻胶热熔制作技术 任智斌; 朱丽思; 曾皓; 姜会林 长春理工大学学报 2006 4
85 环化聚丁二烯的合成及其在光刻胶中的应用 张玉军; 郑岩; 张明艳 化学与黏合 2006 3
86 用于MEMS结构的光刻胶牺牲层接触平坦化技术 邢向龙; 焦继伟; Mark Daffron; 王跃林; Hyung Choi 功能材料与器件学报 2006 2
87 正性小分子光刻胶的制备探索 梁倩倩; 王惟; 谌星伊; 董秋静; 汤嘉陵 四川理工学院学报(自然科学版) 2006 2
88 光刻胶的发展及应用 郑金红 精细与专用化学品 2006 16
89 FSI发布全新无灰化、湿法光刻胶去除ViPR工艺技术 电子产品世界 2006 12
90 光刻胶在场发射显示器(FED)制备中的应用 雷晓阳; 张永爱; 姚亮; 郭太良 现代显示 2006 12
91 改性光刻胶制备纳米压印模版 陈雷明; 郭艳峰; 郭熹; 唐为华 物理学报 2006 12
92 环氧基负性光刻胶加工微结构的试验研究 郑晓虎 光电工程 2006 11
1 镀铬基片全息光栅光刻胶掩模槽形参量光谱检测方法 陈刚 中国激光 2006 6
2 用于光刻胶刻蚀过程模拟的二维动态CA模型 周再发 电子学报 2006 5
3 利用导波耦合角度实时控制光刻胶光栅掩模的占宽比 林华 光学学报 2006 5
4 正/负双层光刻胶厚膜剥离技术 林立 激光与红外 2006 4
5 FSI发布全新的用于无灰化、湿法光刻胶去除ViPR工艺技术 该技术应用在ZETA G3喷雾清洗平台上 电子与电脑 2006 4
6 环化聚丁二烯的合成及其在光刻胶中的应用 张玉军 化学与粘合 2006 3
7 光刻胶在光电产品中的应用及发展简述 李青 半导体行业 2006 2
8 正性小分子光刻胶的制备探索 梁倩倩 四川理工学院学报(自然科学版) 2006 2
9 用于MEMS结构的光刻胶牺牲层接触平坦化技术 邢向龙 功能材料与器件学报 2006 2
10 FSI发布全新无灰化、湿法光刻胶去除ViPR工艺技术 电子产品世界 2006 12
11 AZ4903光刻胶在微电机定子绕组制作中的应用 郭占社 清华大学学报(自然科学版) 2005 8
12 光刻胶等效扩散长度对0.13μm工艺窗口的影响 伍强 半导体技术 2005 7
13 光刻胶刻蚀过程模拟的元胞自动机算法研究 周再发 中国集成电路 2005 7
14 微加工厚光刻胶掩膜电镀工艺研究 姜政 电镀与涂饰 2005 7
15 RZJ-390光刻胶在VFD生产中的质量控制 章建声 电子质量 2005 6
16 浅谈光刻胶在集成电路制造中的应用性能 马建霞 半导体技术 2005 6
17 苏州瑞红正性光刻胶领先国际水平 李子东 粘接 2005 5
18 ULSI用193nm光刻胶的研究进展 郑金红 精细化工 2005 5
19 基于光刻胶回流特性的平面化工艺 叶枝灿 微细加工技术 2005 4
20 球面旋涂光刻胶膜厚分布的数学模型 冯晓国 光学技术 2005 4
21 193nm光刻胶的研制 郑金红 感光科学与光化学 2005 4
22 叠层光刻胶牺牲层工艺研究 姜政 微细加工技术 2005 3
23 AZ5214E反转光刻胶的性能研究及其在剥离工艺中的应用 陈光红 功能材料 2005 3
24 光刻胶烘培特性研究 李淑红 光电工程 2005 3
25 图形反转双层光刻胶金属剥离技术 李春燕 电源技术 2005 3
26 常压射频激励低温冷等离子体刻蚀光刻胶 赵玲利 半导体学报 2005 3
27 化学放大光刻胶高分子材料研究进展 王春伟 高分子通报 2005 2
28 利用傅里叶模方法分析厚层光刻胶内衍射光场 唐雄贵 光学学报 2005 2
29 BP-212正性光刻胶的抗蚀特性研究 郑志霞 微纳电子技术 2005 2
30 常压射频冷等离子体系统及其在光刻胶去除技术中的应用 李海江硕士 四川大学 2005 10
31 一种适用于193nm光刻胶的硫盐光产酸剂的制备与性质 王文君 感光科学与光化学 2005 1
32 一种控制矩形光刻胶光栅槽深和占宽比的方法 赵劲松 光学学报 2004 9
33 光刻胶掩膜微细电化学加工参数的试验研究 李嘉珩 电加工与模具 2004 6
34 环氧基紫外负性光刻胶的特性、应用工艺与展望 朱军 高分子材料科学与工程 2004 4
35 光刻胶傅里叶全息图的记录条件及防伪应用研究 浦东林硕士 苏州大学 2004 3
36 反应离子束刻蚀应用于光刻胶灰化技术研究 王旭迪 微细加工技术 2004 2
37 光刻胶在LCD生产中的应用 杨会然 现代显示 2004 2
38 基于角谱理论的厚层光刻胶衍射光场研究 唐雄贵 光学学报 2004 12
39 常压射频低温冷等离子体清洗光刻胶研究 李海江 半导体技术 2004 12
40 微制造光刻工艺中光刻胶性能的比较 来五星 半导体技术 2004 11
41 光刻胶傅里叶全息图的记录条件对重构图像信噪比的影响 浦东林 激光杂志 2004 1
42 用于光刻胶烘干的热板的研制 王建辉硕士 中国科学院研究生院(长春光学精密机械与物理研究所) 2003 9
43 光刻胶灰化用于全息离子束刻蚀光栅制作 徐向东 真空科学与技术 2003 5
44 248nm深紫外光刻胶 郑金红 感光科学与光化学 2003 5
45 180nm及更深技术中去除过度注入光刻胶的干剥离工艺(英文) 半导体技术 2003 5
46 AZ9260光刻胶制作连续非球面微透镜阵列的研究 张晓玉 微细加工技术 2003 4
47 负性光刻胶刻蚀工艺研究 董小春 光子学报 2003 12
48 我国超净高纯试剂和光刻胶的现状与发展 曹立新 半导体技术 2003 12
49 去除光刻胶的新干法工艺 Richard Bersin 真空 2003 1
50 用于快速光学邻近校正的可变阈值光刻胶模型 王国雄 浙江大学学报(工学版) 2002 6
51 高支化碱溶性聚酯的合成及其微光学光刻胶 冯宗财博士 四川大学 2002 4
52 OMR-85光刻胶的研究与应用 章文红 微电子技术 2002 3
53 一种适于快速OPC的精确光刻胶剖面仿真算法 王国雄 微电子学 2002 3
54 聚硅烷用作紫外亚微米光刻胶 苏志珊 四川大学学报(自然科学版) 2002 2
55 高支化碱溶性丙烯酸化聚酯光刻胶的性能及成像性研究 冯宗财 影像技术 2001 3
56 SU-8 5光刻胶的应用工艺研究 朱军 微细加工技术 2001 2
57 连续微光学元件在光刻胶上的面形控制 曾红军 光学学报 2000 5
58 光刻胶灰化技术用于同步辐射闪耀光栅制作 徐向东 微细加工技术 2000 3
59 聚乙烯醇肉桂酸酯光刻胶的合成 邵燕 上海化工 1999 Z1
60 用于光刻技术的新型化学放大光刻胶 宋琦 大学化学 1999 5
61 激光直写中光刻胶对激光能量的吸收模型 高福华 微细加工技术 1999 4
62 利用多层光刻胶工艺的准LIGA技术 孙自敏 微细加工技术 1999 2
63 AZ5214光刻胶及像反转特性的实验研究 周明宝 微细加工技术 1999 2
64 超净高纯试剂与紫外光刻胶 孙世铭 精细与专用化学品 1999 10
65 一种荧光粉光刻胶通过技术鉴定 王沛熹 中国胶粘剂 1999 1
66 非相干光记录二维真假彩色全息图光刻胶母版技术 张向苏 厦门大学学报(自然科学版) 1998 6
67 高质量的光刻胶图型及它对Nb/AlO_x-Al/Nb隧道结制备的影响(英文) 杜寰 低温物理学报 1998 6
68 激光光盘信息记录光刻胶的合成与感光过程的研究 魏杰 感光科学与光化学 1998 4
69 彩色液晶显示与颜料分散光刻胶 付金美 大学化学 1998 3
70 用接触式显微术方法研究软X射线光刻胶特性 王占山 微细加工技术 1998 2
71 光刻胶灰化工艺与深亚微米线条的制作 孙自敏 微细加工技术 1998 2
72 KrF准分子激光直接消融深层光刻紫外光刻胶实验研究 沈蓓军 功能材料与器件学报 1998 2
73 光敏聚酰亚胺光刻胶成膜技术探讨 高素欣 河北化工 1998 1
74 微透镜制作中光刻胶与衬底匹配行为的研究 张新宇 光子学报 1998 1
75 如何制作具有预期刻蚀深度的光刻胶浮雕全息图 钟丽云 激光杂志 1997 6
76 耐高温光刻胶光栅模板的制作与转移技术及其应用 卿新林 光学技术 1997 4
77 光刻胶用环化聚异戊二烯的研制 黄平 弹性体 1997 2
78 自动滴胶的新型光刻胶泵 周占富 电子工业专用设备 1996 3
79 1μm CMOS电路研制中光刻胶反向腐蚀工艺研究 吕军 微电子技术 1996 2
80 模压全息图的衍射效率与光刻胶母版沟纹深度的关系 熊秉衡 光子学报 1996 11
81 高质量光刻胶微小透镜阵列的制作 高应俊 光子学报 1996 10
82 DCPA光刻胶的软X射线感光灵敏度初步测量 郭玉彬 微细加工技术 1995 4
83 光敏聚酰亚胺光刻胶及光刻工艺的研究 白宗武 感光科学与光化学 1995 4
84 正性光刻胶的噪声抑制 古平北 激光杂志 1995 3
85 用近贴式软X射线光刻术研究DCPA光刻胶的曝光性能 郭玉彬 光子学报 1995 3
86 同步辐射X射线光刻中光刻胶显影速率模型研究 谢常青 科学通报 1995 21
87 光刻胶图形塌陷机理 微言 微电子学 1994 4
88 离子束刻蚀过程中光刻胶收缩行为研究 曾祥林 微细加工技术 1994 3
89 适用于剥离工艺的光刻胶图形的制作技术及其机理讨论 韩阶平 真空科学与技术学报 1994 3
90 光刻胶针孔密度测试方法-透射铬版法的研究 喻小琦 感光科学与光化学 1994 3
91 JS-4正性光刻胶两重性的研究 浦家诚 影像材料 1993 6
92 光刻胶及其发展趋势 陈庆修 化学试剂 1993 4
93 光刻与光刻胶的研究与发展 洪啸吟 高分子通报 1993 3
94 光刻胶回流技术 敖玉贵 微电子学 1992 6
95 光刻胶处理系统的国内外现状 管慧 半导体技术 1992 5
96 光刻胶处理系统的国内外现状 管慧 电子工业专用设备 1992 2
97 正性光刻胶材料—2, 6-二甲基-3, 5-二羧酸酯基-4-(2'-硝基苯基)-1, 4-二氢吡啶类化合物 陈兆斌 影像材料 1992 1
98 国内外光刻胶处理装置的发展概况 白荣宗 半导体技术 1991 5
99 用正性光刻胶进行GaAs IC的非辅助直接剥离技术 廉亚光 微纳电子技术 1991 3
100 马来酰亚胺——苯乙烯共聚物类型的光刻胶 陈兆斌 影像材料 1991 1
101 用染色光刻胶研制LCD用滤色器 井波敬 光电子技术 1990 4
102 用于制作小面积隧道结的悬挂光刻胶掩模 李淑琴 低温与超导 1990 4
103 紫外光/臭氧干法去除光刻胶速率的提高 谈凯声 半导体学报 1990 4
104 光刻胶环化度的红外光谱测定 曹莲亿 合成橡胶工业 1990 4
105 光刻胶对等离子腐蚀的影响 L.Y.Tsou 微电子学 1990 3
106 一种新型耐热性抗干法刻蚀正性光刻胶的研制 袁明荣 影像材料 1989 3
107 高抗蚀性的聚酯型光刻胶 吕广镛 广东化工 1989 3
108 紫外光/臭氧干法去除光刻胶 谈凯声 半导体学报 1989 3
109 X-射线光刻胶的研究 史天义 功能高分子学报 1989 2
110 光刻胶上的PECVD二氧化硅 赵友洲 微电子学与计算机 1989 10
111 聚酯型光刻胶的发光行为 吕广镛 华南师范大学学报(自然科学版) 1989 1
112 电子束正性含氟光刻胶 徐保培 化学进展 1989 00
113 高速正型光刻胶 裘朱熙 影像材料 1988 4
114 不用耐腐蚀光刻胶获得玻璃钝化双槽结构 姚风冰 半导体技术 1988 3
115 用分级方法提高聚酯型光刻胶的质量 吕广镛 华南师范大学学报(自然科学版) 1988 1
116 光刻胶处理系统 王万琪 电子工业专用设备 1988 1
117 HBT-G型光刻胶的研制 刘鹏 浙江化工 1987 4
118 多层光刻胶刻蚀工艺的性能和可生产性 L.P.Bushnell 微电子学 1987 4
119 SHN-1型双叠氮-环化异戊橡胶类紫外负性光刻胶 复旦学报(自然科学版) 1987 1
120 用302负型光刻胶刻制光学度盘 宋希明 光学技术 1986 4
121 远紫外线光刻胶 周建竞 现代化工 1986 4
122 正性光刻胶的成膜剂或粘附剂对其性能的影响 浦家诚 感光科学与光化学 1986 4
123 用302负性光刻胶刻制光学度盘 宋希明 长春理工大学学报 1986 2
124 邻叠氮醌化合物与正型光刻胶 刘鹏 化工新型材料 1984 5
125 正性光刻胶使用的一种新方法──低温显影技术 张太平 半导体学报 1984 5
126 正性光刻胶制作光学分划图形技术 王冬香 光学技术 1984 4
127 环化光刻胶用的新型胶 郑宁来 现代化工 1984 4
128 超大规模集成电路微细光刻中光刻胶的粒子控制 Mary L.Long 微电子学 1984 4
129 光刻胶中氟的测定 严性天 半导体技术 1984 4
130 LH—2光刻胶 姜远禄 精细化工 1984 2
131 X射线光刻用的三层光刻胶 顾柏春 微细加工技术 1984 1
132 采用悬挂的光刻胶掩膜制作小面积隧道结 杨森祖 低温与超导 1983 2
133 光刻胶的针孔测法及评价 杨振锋 半导体技术 1983 1
134 江师正型光刻胶全息特性的实验研究 陶世荃 影像材料 1982 1
135 日本东洋曹达公司研制出超大规模集成电路用的负型光刻胶 徐京生 化工新型材料 1981 9
136 用于剥离工艺的高分辨率双层光刻胶结构 C.Li 微纳电子技术 1981 4
137 光刻胶照相镀铬法 钱石南 光学技术 1980 4
138 聚酯型光刻胶—聚肉桂叉丙二酸1.4-丁二醇酯的合成及其光刻使用性能的初步报告 华南师范大学化学系光刻胶研制组 华南师范大学学报(自然科学版) 1980 1
139 光刻胶LQ-2研制报告 浙江化工 1979 3
140 光刻胶用于分步重复照相工艺的尝试 吴正中 半导体技术 1979 3
141 国外光致抗蚀剂(光刻胶)概况 化工新型材料 1978 4
142 丁二烯橡胶环化物制的负型光刻胶问世 化工新型材料 1978 2
143 关于光刻胶的鉴定和光刻工艺的探索 半导体技术 1976 2

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