光刻胶
Photoresists

www.rubberimpex.com www

    橡胶进出口网提供光刻胶相关信息服务。橡胶进出口网主要从事橡胶相关产品的进出口业务，经营范围包括橡胶制品，橡胶机械，天然橡胶，合成橡胶，橡胶助剂，橡胶检测分析仪器等。

1 镀铬基片全息光栅光刻胶掩模槽形参量光谱检测方法 陈刚 中国激光 2006 6
2 用于光刻胶刻蚀过程模拟的二维动态CA模型 周再发 电子学报 2006 5
3 利用导波耦合角度实时控制光刻胶光栅掩模的占宽比 林华 光学学报 2006 5
4 正/负双层光刻胶厚膜剥离技术 林立 激光与红外 2006 4
5 FSI发布全新的用于无灰化、湿法光刻胶去除ViPR工艺技术 该技术应用在ZETA G3喷雾清洗平台上 电子与电脑 2006 4
6 环化聚丁二烯的合成及其在光刻胶中的应用 张玉军 化学与粘合 2006 3
7 光刻胶在光电产品中的应用及发展简述 李青 半导体行业 2006 2
8 正性小分子光刻胶的制备探索 梁倩倩 四川理工学院学报(自然科学版) 2006 2
9 用于MEMS结构的光刻胶牺牲层接触平坦化技术 邢向龙 功能材料与器件学报 2006 2
10 FSI发布全新无灰化、湿法光刻胶去除ViPR工艺技术 电子产品世界 2006 12
11 AZ4903光刻胶在微电机定子绕组制作中的应用 郭占社 清华大学学报(自然科学版) 2005 8
12 光刻胶等效扩散长度对0.13μm工艺窗口的影响 伍强 半导体技术 2005 7
13 光刻胶刻蚀过程模拟的元胞自动机算法研究 周再发 中国集成电路 2005 7
14 微加工厚光刻胶掩膜电镀工艺研究 姜政 电镀与涂饰 2005 7
15 RZJ-390光刻胶在VFD生产中的质量控制 章建声 电子质量 2005 6
16 浅谈光刻胶在集成电路制造中的应用性能 马建霞 半导体技术 2005 6
17 苏州瑞红正性光刻胶领先国际水平 李子东 粘接 2005 5
18 ULSI用193nm光刻胶的研究进展 郑金红 精细化工 2005 5
19 基于光刻胶回流特性的平面化工艺 叶枝灿 微细加工技术 2005 4
20 球面旋涂光刻胶膜厚分布的数学模型 冯晓国 光学技术 2005 4
21 193nm光刻胶的研制 郑金红 感光科学与光化学 2005 4
22 叠层光刻胶牺牲层工艺研究 姜政 微细加工技术 2005 3
23 AZ5214E反转光刻胶的性能研究及其在剥离工艺中的应用 陈光红 功能材料 2005 3
24 光刻胶烘培特性研究 李淑红 光电工程 2005 3
25 图形反转双层光刻胶金属剥离技术 李春燕 电源技术 2005 3
26 常压射频激励低温冷等离子体刻蚀光刻胶 赵玲利 半导体学报 2005 3
27 化学放大光刻胶高分子材料研究进展 王春伟 高分子通报 2005 2
28 利用傅里叶模方法分析厚层光刻胶内衍射光场 唐雄贵 光学学报 2005 2
29 BP-212正性光刻胶的抗蚀特性研究 郑志霞 微纳电子技术 2005 2
30 常压射频冷等离子体系统及其在光刻胶去除技术中的应用 李海江硕士 四川大学 2005 10
31 一种适用于193nm光刻胶的硫盐光产酸剂的制备与性质 王文君 感光科学与光化学 2005 1
32 一种控制矩形光刻胶光栅槽深和占宽比的方法 赵劲松 光学学报 2004 9
33 光刻胶掩膜微细电化学加工参数的试验研究 李嘉珩 电加工与模具 2004 6
34 环氧基紫外负性光刻胶的特性、应用工艺与展望 朱军 高分子材料科学与工程 2004 4
35 光刻胶傅里叶全息图的记录条件及防伪应用研究 浦东林硕士 苏州大学 2004 3
36 反应离子束刻蚀应用于光刻胶灰化技术研究 王旭迪 微细加工技术 2004 2
37 光刻胶在LCD生产中的应用 杨会然 现代显示 2004 2
38 基于角谱理论的厚层光刻胶衍射光场研究 唐雄贵 光学学报 2004 12
39 常压射频低温冷等离子体清洗光刻胶研究 李海江 半导体技术 2004 12
40 微制造光刻工艺中光刻胶性能的比较 来五星 半导体技术 2004 11
41 光刻胶傅里叶全息图的记录条件对重构图像信噪比的影响 浦东林 激光杂志 2004 1
42 用于光刻胶烘干的热板的研制 王建辉硕士 中国科学院研究生院（长春光学精密机械与物理研究所） 2003 9
43 光刻胶灰化用于全息离子束刻蚀光栅制作 徐向东 真空科学与技术 2003 5
44 248nm深紫外光刻胶 郑金红 感光科学与光化学 2003 5
45 180nm及更深技术中去除过度注入光刻胶的干剥离工艺(英文) 半导体技术 2003 5
46 AZ9260光刻胶制作连续非球面微透镜阵列的研究 张晓玉 微细加工技术 2003 4
47 负性光刻胶刻蚀工艺研究 董小春 光子学报 2003 12
48 我国超净高纯试剂和光刻胶的现状与发展 曹立新 半导体技术 2003 12
49 去除光刻胶的新干法工艺 Richard Bersin 真空 2003 1
50 用于快速光学邻近校正的可变阈值光刻胶模型 王国雄 浙江大学学报(工学版) 2002 6
51 高支化碱溶性聚酯的合成及其微光学光刻胶 冯宗财博士 四川大学 2002 4
52 OMR-85光刻胶的研究与应用 章文红 微电子技术 2002 3
53 一种适于快速OPC的精确光刻胶剖面仿真算法 王国雄 微电子学 2002 3
54 聚硅烷用作紫外亚微米光刻胶 苏志珊 四川大学学报(自然科学版) 2002 2
55 高支化碱溶性丙烯酸化聚酯光刻胶的性能及成像性研究 冯宗财 影像技术 2001 3
56 SU-8 5光刻胶的应用工艺研究 朱军 微细加工技术 2001 2
57 连续微光学元件在光刻胶上的面形控制 曾红军 光学学报 2000 5
58 光刻胶灰化技术用于同步辐射闪耀光栅制作 徐向东 微细加工技术 2000 3
59 聚乙烯醇肉桂酸酯光刻胶的合成 邵燕 上海化工 1999 Z1
60 用于光刻技术的新型化学放大光刻胶 宋琦 大学化学 1999 5
61 激光直写中光刻胶对激光能量的吸收模型 高福华 微细加工技术 1999 4
62 利用多层光刻胶工艺的准LIGA技术 孙自敏 微细加工技术 1999 2
63 AZ5214光刻胶及像反转特性的实验研究 周明宝 微细加工技术 1999 2
64 超净高纯试剂与紫外光刻胶 孙世铭 精细与专用化学品 1999 10
65 一种荧光粉光刻胶通过技术鉴定 王沛熹 中国胶粘剂 1999 1
66 非相干光记录二维真假彩色全息图光刻胶母版技术 张向苏 厦门大学学报(自然科学版) 1998 6
67 高质量的光刻胶图型及它对Nb/AlO_x-Al/Nb隧道结制备的影响(英文) 杜寰 低温物理学报 1998 6
68 激光光盘信息记录光刻胶的合成与感光过程的研究 魏杰 感光科学与光化学 1998 4
69 彩色液晶显示与颜料分散光刻胶 付金美 大学化学 1998 3
70 用接触式显微术方法研究软X射线光刻胶特性 王占山 微细加工技术 1998 2
71 光刻胶灰化工艺与深亚微米线条的制作 孙自敏 微细加工技术 1998 2
72 KrF准分子激光直接消融深层光刻紫外光刻胶实验研究 沈蓓军 功能材料与器件学报 1998 2
73 光敏聚酰亚胺光刻胶成膜技术探讨 高素欣 河北化工 1998 1
74 微透镜制作中光刻胶与衬底匹配行为的研究 张新宇 光子学报 1998 1
75 如何制作具有预期刻蚀深度的光刻胶浮雕全息图 钟丽云 激光杂志 1997 6
76 耐高温光刻胶光栅模板的制作与转移技术及其应用 卿新林 光学技术 1997 4
77 光刻胶用环化聚异戊二烯的研制 黄平 弹性体 1997 2
78 自动滴胶的新型光刻胶泵 周占富 电子工业专用设备 1996 3
79 1μm CMOS电路研制中光刻胶反向腐蚀工艺研究 吕军 微电子技术 1996 2
80 模压全息图的衍射效率与光刻胶母版沟纹深度的关系 熊秉衡 光子学报 1996 11
81 高质量光刻胶微小透镜阵列的制作 高应俊 光子学报 1996 10
82 DCPA光刻胶的软X射线感光灵敏度初步测量 郭玉彬 微细加工技术 1995 4
83 光敏聚酰亚胺光刻胶及光刻工艺的研究 白宗武 感光科学与光化学 1995 4
84 正性光刻胶的噪声抑制 古平北 激光杂志 1995 3
85 用近贴式软X射线光刻术研究DCPA光刻胶的曝光性能 郭玉彬 光子学报 1995 3
86 同步辐射X射线光刻中光刻胶显影速率模型研究 谢常青 科学通报 1995 21
87 光刻胶图形塌陷机理 微言 微电子学 1994 4
88 离子束刻蚀过程中光刻胶收缩行为研究 曾祥林 微细加工技术 1994 3
89 适用于剥离工艺的光刻胶图形的制作技术及其机理讨论 韩阶平 真空科学与技术学报 1994 3
90 光刻胶针孔密度测试方法－透射铬版法的研究 喻小琦 感光科学与光化学 1994 3
91 JS-4正性光刻胶两重性的研究 浦家诚 影像材料 1993 6
92 光刻胶及其发展趋势 陈庆修 化学试剂 1993 4
93 光刻与光刻胶的研究与发展 洪啸吟 高分子通报 1993 3
94 光刻胶回流技术 敖玉贵 微电子学 1992 6
95 光刻胶处理系统的国内外现状 管慧 半导体技术 1992 5
96 光刻胶处理系统的国内外现状 管慧 电子工业专用设备 1992 2
97 正性光刻胶材料—2, 6-二甲基-3, 5-二羧酸酯基-4-(2'-硝基苯基)-1, 4-二氢吡啶类化合物 陈兆斌 影像材料 1992 1
98 国内外光刻胶处理装置的发展概况 白荣宗 半导体技术 1991 5
99 用正性光刻胶进行GaAs IC的非辅助直接剥离技术 廉亚光 微纳电子技术 1991 3
100 马来酰亚胺——苯乙烯共聚物类型的光刻胶 陈兆斌 影像材料 1991 1
101 用染色光刻胶研制LCD用滤色器 井波敬 光电子技术 1990 4
102 用于制作小面积隧道结的悬挂光刻胶掩模 李淑琴 低温与超导 1990 4
103 紫外光/臭氧干法去除光刻胶速率的提高 谈凯声 半导体学报 1990 4
104 光刻胶环化度的红外光谱测定 曹莲亿 合成橡胶工业 1990 4
105 光刻胶对等离子腐蚀的影响 L.Y.Tsou 微电子学 1990 3
106 一种新型耐热性抗干法刻蚀正性光刻胶的研制 袁明荣 影像材料 1989 3
107 高抗蚀性的聚酯型光刻胶 吕广镛 广东化工 1989 3
108 紫外光/臭氧干法去除光刻胶 谈凯声 半导体学报 1989 3
109 X-射线光刻胶的研究 史天义 功能高分子学报 1989 2
110 光刻胶上的PECVD二氧化硅 赵友洲 微电子学与计算机 1989 10
111 聚酯型光刻胶的发光行为 吕广镛 华南师范大学学报(自然科学版) 1989 1
112 电子束正性含氟光刻胶 徐保培 化学进展 1989 00
113 高速正型光刻胶 裘朱熙 影像材料 1988 4
114 不用耐腐蚀光刻胶获得玻璃钝化双槽结构 姚风冰 半导体技术 1988 3
115 用分级方法提高聚酯型光刻胶的质量 吕广镛 华南师范大学学报(自然科学版) 1988 1
116 光刻胶处理系统 王万琪 电子工业专用设备 1988 1
117 HBT-G型光刻胶的研制 刘鹏 浙江化工 1987 4
118 多层光刻胶刻蚀工艺的性能和可生产性 L.P.Bushnell 微电子学 1987 4
119 SHN-1型双叠氮-环化异戊橡胶类紫外负性光刻胶 复旦学报(自然科学版) 1987 1
120 用302负型光刻胶刻制光学度盘 宋希明 光学技术 1986 4
121 远紫外线光刻胶 周建竞 现代化工 1986 4
122 正性光刻胶的成膜剂或粘附剂对其性能的影响 浦家诚 感光科学与光化学 1986 4
123 用302负性光刻胶刻制光学度盘 宋希明 长春理工大学学报 1986 2
124 邻叠氮醌化合物与正型光刻胶 刘鹏 化工新型材料 1984 5
125 正性光刻胶使用的一种新方法──低温显影技术 张太平 半导体学报 1984 5
126 正性光刻胶制作光学分划图形技术 王冬香 光学技术 1984 4
127 环化光刻胶用的新型胶 郑宁来 现代化工 1984 4
128 超大规模集成电路微细光刻中光刻胶的粒子控制 Mary L.Long 微电子学 1984 4
129 光刻胶中氟的测定 严性天 半导体技术 1984 4
130 LH—2光刻胶 姜远禄 精细化工 1984 2
131 X射线光刻用的三层光刻胶 顾柏春 微细加工技术 1984 1
132 采用悬挂的光刻胶掩膜制作小面积隧道结 杨森祖 低温与超导 1983 2
133 光刻胶的针孔测法及评价 杨振锋 半导体技术 1983 1
134 江师正型光刻胶全息特性的实验研究 陶世荃 影像材料 1982 1
135 日本东洋曹达公司研制出超大规模集成电路用的负型光刻胶 徐京生 化工新型材料 1981 9
136 用于剥离工艺的高分辨率双层光刻胶结构 C.Li 微纳电子技术 1981 4
137 光刻胶照相镀铬法 钱石南 光学技术 1980 4
138 聚酯型光刻胶—聚肉桂叉丙二酸1.4-丁二醇酯的合成及其光刻使用性能的初步报告 华南师范大学化学系光刻胶研制组 华南师范大学学报(自然科学版) 1980 1
139 光刻胶LQ-2研制报告 浙江化工 1979 3
140 光刻胶用于分步重复照相工艺的尝试 吴正中 半导体技术 1979 3
141 国外光致抗蚀剂(光刻胶)概况 化工新型材料 1978 4
142 丁二烯橡胶环化物制的负型光刻胶问世 化工新型材料 1978 2
143 关于光刻胶的鉴定和光刻工艺的探索 半导体技术 1976 2